У истоков российских сверхточных современных литографов
В Институте прикладной физики Российской академии наук (ИПФ РАН) ведется разработка первой отечественной установки литографии для производства микроэлектроники по современным технологическим процессам. Сейчас, как говорят сами разработчики, создан демонстрационный образец,…
В России начата разработка безмасочного фотолитографического оборудования техпроцессов 16-28 нм
Минпромторг России выделил средства на создание безмасочного рентген-фотолитографа «на базе синхротронного и/или плазменного источника» Национальному исследовательскому университету «МИЭТ» (Зеленоград). Стартует разработка технологии для создания в будущем отечественной установки фотолитографии на…