Как выглядит первый российский литограф на 350 нм?

Недавно я в своем блоге публиковал статью «Российский литограф на 350 нм сдан и готов к производству!», в которой показал, как выглядит этот литограф в составе микроклиматического кабинета:

Сам литограф вне кабинета автору видеорепортажа, к сожалению, не показали, и в кадр его видеокамеры мало что попало. Разве что фрагмент оптической колонны литографа:

Между тем, мы знаем, что этот литограф был сделан белорусским Планаром на базе собственного литографа ЭМ-5884, разработанного ими в 2021-и году, который, в свою очередь, был более широкоформатной версией ЭМ-5784, созданного ими же в 2017-м году:

Замечу, что все эти литографы рассчитаны на техпроцесс 350 нм. Сам техпроцесс, позволяющий литографу производить чипы, разработан непосредственно в ЗНТЦ (Зеленоград, Россия). Также ЗНТЦ считается головным предприятием, взявшим на себя общий российский госконтракт от Минпромторга по литографу и техпроцессу.

Когда ЗНТЦ получил госконтракт на разработку литографа, белорусский вариант тут же пропал с их сайта и был вычищен из всех их современных каталогов. Однако в старых каталогах информацию о нём всё ещё можно найти. Вопрос лишь в том, где найти эти старые каталоги )))

В общем-то, ничего криминального не произошло. Скорее всего, российский госконтракт и был рассчитан на полную скупку белорусской машины на Планаре, а не разработку её «с нуля». Косвенно об этом свидетельствует и относительно небольшая сумма контракта, которая в 6 раз меньше суммы, выделенной для постройки следующего литографа на 130 нм, который уже реально предстоит построить.

С другой стороны, зачем надо было требовать от Планара спрятать собственную разработку? Ведь информация о ней уже была в Интернете, и вычистить её оттуда полностью в любом случае невозможно. Интернет помнит всё 🙂 Да и нет криминала в покупке этой разработки Россией. Ну, видимо, такие были условия их внутренних соглашений.

Замечу, что без специалистов Планара нам всё равно было не обойтись. В СССР промышленные литографы делал только минский Планар. На территории России не было ни базового предприятия, ни специалистов. К счастью, после развала страны Беларусь не только не утратила, но и продвинулась в своих компетенциях, что позволило самостоятельно перейти от литографов на 800 нм и разработок на 500 нм к реальным машинам на 350 нм.

О том, как выглядит оригинальный ЭМ-5884 вне микроклиматического кабинета, удалось узнать одному из моих читателей на выставке Экспоэлектроника-2025, проходящей в эти дни с 15 по 17 апреля. Там на стенде Планара во всю стену было размещено фото этого литографа:

Так что есть все основания полагать, что микроклиматический кабинет в ЗНТЦ скрывает именно это устройство, разве что с минимальными доработками.

Вот физическая часть литографа крупно:

Сверху в центре, блестящее — это один из наиболее сложных узлов литографа — оптическая колонна из 27 линз, сделанных из кварцевого стекла.

Литограф собран с использованием в том числе и каких-то заведомо хороших зарубежных узлов, чтобы ускорить процесс разработки, но сейчас продолжается постоянная работа по поиску достойной отечественной замены для таких модулей.

Ну и ещё пара фоток из телеграм-канала Сергея Собянина:

Это литограф в процессе сборки и юстировки.

Кстати, на канале Сергея Собянина указано:

• Наша установка серьёзно отличается от зарубежных аналогов. Впервые в качестве излучения использовали не ртутную лампу, а твердотельный лазер — мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром.

Это противоречит моим прежним предположениям о том, что в качестве источника применена ртутная лампа. Я исходил из частоты излучения, описанной в ТЗ в разделе требований к объективу, которая соответствует именно ртутной лампе, а не лазеру:

• Рабочая длина волны, нм — 365.

Однако далее в том же ТЗ, в таблице этапов выполнения ОКР, говорится уже об объективе для лазерной длины волны 354,7 нм:

• Предварительный расчёт рабочего объектива для проекционной системы для производства СБИС с топологической нормой 350 нм для длины волны 354,7 нм и рабочим полем 22 х 22 мм.

Видимо, при начальном составлении ТЗ ориентировались на более привычный источник, а в процессе расписывания этапов ОКР уже получили информацию, что в Планаре на их машине применяется уже лазерный источник, и вписали его, а в общих требованиях это подправить забыли.

В общем, первый экземпляр литографа Минпромторг оставляет ЗНТЦ в опытное пользование для экспериментирования с различными доработками, а в продажу пойдут уже серийные машины, первая из которых вместе с готовым техпроцессом под конкретного пользователя появится через полтора года.

Оригинал публикации в блоге автора на Дзене: https://dzen.ru/a/Z__MftojShN0Y7yr

Об авторе: Специалист в области отечественной микроэлектроники, ведёт свой тематический канал «Электромозг» о российской микроэлектронике на платформе «Дзен».

ЧИТАЙТЕ ТАКЖЕ материалы о российской микроэлектронике:

Российские ученые разработали литограф для печати фотонных интегральных схем

В России разработали новые системы хранения данных на базе оптических дисков

В России разработан первый в мире принтер сухой аэрозольной печати для микроэлектроники

В России выпускают серверы на 48-ядерных процессорах Байкал-S

О разработке российского литографа и необходимых для него технологиях: кратко и понятно