Какие новые разработки заказаны для создания российского производства процессоров
В своё время в комментариях к моим статьям на тему оборудования (в частности, литографов) было много скептиков, утверждавших (причём справедливо), что помимо оборудования, для организации микропроцессорного производства нужно ещё очень много т.н. «чистых» материалов, которые в России не выпускается.
Видимо, в Минпромторге РФ об этом каким-то непостижимым образом тоже знали, а также знали даже на зеленоградском заводе «Микрон» (интересно, откуда… наверное, они прочитали комментарии скептиков под моими статьями), так что работа по чистой химии началась отнюдь не сегодня.
Так, про фоторезисты я писал ещё полтора года назад. Ну и про другую чистую химию я кое-что упоминал и в другой своей статье примерно в тот же период. Также, год назад я написал о том, что уже импортозамещено 26 материалов чистой химии. Скептики кричали: «Этого мало! Мало! Там нужны десятки чистых веществ!». И вот, их опять услышали.
22 ноября 2024 года Минпромторг России разместил на сайте госзакупок 13 новых НИР’ов на чистую химию и 2 ОКР’а на оборудование со сроком исполнения 31.12.2026. НИР’ы относятся к разработке и запуске в производство чистых материалов для микроэлектроники, а ОКР’ы — к разработке техпроцессов и оборудования. Ниже перечислю все упомянутые выше лоты.
НИР’ы
НИР «Разработка и постановка на производство материалов (композиций) для нанесения планаризующих слоев»
Планаризирующие растворы Accuglass SOG-214 и SOG-211 применяются в микроэлектронике для межуровневой пассивации и нанесения верхнего слоя при производстве интегральных схем.
Серия Accuglass T-14, представляющая собой семейство метилсилоксановых полимеров, специально разработана для заполнения узких (до 0,1 мкм) зазоров без пустот и планаризации структур ILD и PMD, используемых в устройствах с многоуровневой металлической разводкой (металлизацией).
Особый состав раствора обеспечивает стабильную диэлектрическую проницаемость, высокую трещиностойкость, превосходные свойства заполнения зазоров и выравнивания отвержденной пленки.
Актуальность работы обусловлена прекращением поставок в Российскую Федерацию планаризирующих растворов Accuglass SOG-214 и SOG-211 иностранного производства. Российские разработки аналогичных материалов и их производство отсутствуют.
НИР «Разработка технологии получения и постановка на производство олигоаминоимида типа ПАИС-104»
Актуальность работы обусловлена необходимостью применения полиаминоимида типа ПАИС-104 в качестве технологической добавки при производстве изделий из Mo-пермаллоя. Производство полиаминоимида типа ПАИС-104 на территории Российской Федерации в настоящее время отсутствует.
НИР «Разработка и постановка на производство особо чистого хлора (Cl₂)»
Актуальность работы обусловлена прекращением поставок в Российскую Федерацию особо чистого хлора (Cl₂) иностранного производства, широко применяемого в технологических процессах изготовления интегральных схем.
НИР «Разработка и освоение производства водных растворов суспензий для барьерного (Ta/TaN) и медного слоев»
Актуальность работы обусловлена прекращением поставок водных растворов суспензий для барьерного (Ta/TaN) и медного слоев иностранного производства для изготовления субмикронных интегральных схем. Российские разработки аналогичных материалов и их производство отсутствуют.
НИР «Разработка технологии и постановка на производство комбинированного материала для химико-механической полировки слоев»
Актуальность работы обусловлена прекращением поставок в Российскую Федерацию полировальных подушек фирмы Dow (США), которые используются для выполнения процесса химико-механической полировки (далее – ХМП) слоев при производстве кристаллов на пластине диаметром 200 мм c проектными нормами до 90 нм.
НИР «Разработка технологии получения и постановка на производство композитного клея»
Разработка и постановка на производство композитного термоклея — функционального аналога клея EUKALIN 571 GH B производства EUKALIN Spezial-Klebstoff Fabrik GmbH, а также очищающего средства — жидкого очистителя термоплавкого клея, функционального аналога очищающей жидкости AP7 производства компании Nordson.
Актуальность работы обусловлена прекращением поставок в Российскую Федерацию композитного термоклея иностранного производства EUKALIN 571 GH B (Германия), используемого в технологии сборки бесконтактных смарт-карт, а также для получения участков с клеем остаточной липкости на почтовых конвертах, пакетах или этикетках.
Производство композитного термоклея с требуемыми характеристиками для микроэлектроники на территории Российской Федерации отсутствует, а необходимые объёмы импортируются из зарубежных стран.
Разработка и выпуск отечественного композитного термоклея позволит исключить технологическую зависимость российской радиоэлектронной промышленности в данном компоненте и обеспечить создание новой высокотехнологичной аппаратуры специального и двойного применения современного уровня.
НИР «Разработка технологии и постановка на производство на производство транс-1,2–дихлорэтилен»
Актуальность работы обусловлена широким применением транс-1,2-дихлорэтилена в микроэлектронной и полупроводниковой промышленности в качестве озонобезопасного жидкого источника хлора для окисления кремния и очистки трубок. Он имеет низкий уровень токсичности и не отнесен к химикатам, разрушающим озоновый слой. Транс-1,2-дихлорэтилен обеспечивает стабильные результаты технологического процесса окисления и превосходит по своим характеристикам коррозионно-активную соляную кислоту. Использование транс-1,2-дихлорэтилена считается предпочтительнее любых известных источников хлора в низкотемпературном диапазоне процессов окисления (ниже 800°C).
1,2-Дихлорэтилены в виде смеси (цис; транс) изомеров часто образуются в результате побочных реакций при производстве хлорированных углеводородов, например, при производстве винилхлорида и трихлорэтилена. Транс-1,2-дихлорэтилен может быть извлечен и очищен из указанной смеси (цис; транс) изомеров.
В обеспечения потребностей отечественной радиоэлектронной промышленности необходимо разработать и внедрить в серийное производство современные энергоэффективные, конкурентоспособные технологии получения особо чистого транс-1,2-дихлорэтилена чистотой не менее 8N (по примесным металлам), пригодного для технологического процесса изготовления компонентов электронный базы.
НИР «Разработка и постановка на производство клеев эпоксидных термоотверждаемых с быстрым отверждением, используемых в производстве изделий электронной техники»
Актуальность работы обусловлена прекращением поставок в Российскую Федерацию клея иностранного производства Delo Monopox AC245 (Германия), используемого для соединения и электрического контакта неизолированных полупроводников в технологии сборки инлея, а также термоотверждаемых клеев иностранного производства Delo Monopox DA587 (Германия), Bonotec 2000I-T8 (КНР), применяемых в технологии сборки чип-модулей Die Attach.
Производство эпоксидных быстроотверждаемых клеев требуемых характеристик для микроэлектроники, в том числе с анизотропной проводимостью, на территории Российской Федерации отсутствует, а необходимые объёмы указанных клеев импортируются из зарубежных стран.
Разработка и выпуск отечественных эпоксидных быстроотверждаемых клеев позволит исключить технологическую зависимость российской радиоэлектронной промышленности и обеспечить создание новой высокотехнологичной аппаратуры специального и двойного применения современного уровня.
НИР «Разработка технологии получения и постановка на производство высокочистого гексаметилдисилизана (ГМДС)»
Разработка и постановка на производство ГМДС марки «ОСЧ 34-6» (особой чистоты) для производства изделий электронной техники.
Актуальность работы обусловлена отсутствием в Российской Федерации производства высокочистого гексаметилдисилазана, используемого при производстве изделий электронной техники.
НИР «Разработка технологии получения и постановка на производство тетрафторида кремния особо чистого»
Актуальность работы обусловлена прекращением поставок особо чистого тетрафторида кремния (SiF₄) иностранного производства, применяемого в технологических процессах изготовления интегральных схем.
НИР «Разработка и постановка на производство особо чистого октафторциклобутана (C₄F₈)»
Актуальность работы обусловлена прекращением поставок особо чистого октафторциклобутана (C₄F₈), иностранного производства, применяемого
в технологических процессах изготовления интегральных схем.
НИР «Разработка и постановка на производство особо чистого фторметана (CH₃F)»
Актуальность работы обусловлена прекращением поставок особо чистого фторметана (CH₃F), иностранного производства, применяемого в технологических процессах изготовления интегральных схем.
НИР «Разработка и постановка на производство особо чистого дифторметана (CH₂F₂)»
Актуальность работы обусловлена прекращением поставок особо чистого дифторметана (CH₂F₂), иностранного производства, применяемого в технологических процессах изготовления интегральных схем.
ОКР’ы на оборудование
ОКР «Разработка и моделирование технологического процесса получения аргона чистотой 8.0»
Целью выполнения ОКР является разработка технологического процесса получения газа чистотой 8.0 и создание опытно-промышленной установки с целью моделирования всех стадий технологического процесса получения газа чистотой 8.0 из газа чистоты не хуже 4.8. Рабочий газ: аргон. Прямые отечественные аналоги отсутствуют. Функциональными аналогами являются: очиститель аргона EGS5-G-25, Китай.
В ходе выполнения работы должны быть выполнены следующие задачи:
-
разработка технологической документации;
-
разработка программы и методики испытаний;
-
изготовление опытного образца установки на территории Исполнителя, выпуск документации литеры О;
-
монтажные и пуско-наладочные работы установки на территории Исполнителя, проведение приёмочных испытаний, выпуск документации с присвоением литеры О₁.
ОКР «Разработка и освоение производства гелий-неоновых лазеров и фотоприемников для систем позиционирования оборудования, применяемого в производстве ИС с топологическими нормами до 65 нм»
Целью выполнения ОКР является разработка и освоение производства комплекта гелий-неоновых лазеров и фотоприемников для систем позиционирования оборудования, применяемого в производстве ИС
с топологическими нормами до 65 нм.
Разрабатываемый Комплект предназначен для замены лазеров модели 5517C и фотоприемников моделей E1709A и 10780F производства фирмы Keysight в зарубежном оборудовании, а также в действующем и разрабатываемом отечественном оборудовании, применяемом в производстве ИС с проектными нормами до 65 нм, таком как:
-
литографические степперы и сканеры Nikon серий SF 204 — 206, i-11, i-12, ASML серии PAS-5500, а также генераторы изображений топологических структур на фотошаблонах;
-
метрологические РЭМ для контроля критических размеров (CD-SEM) Hitachi cерий 93хх, CG-4000, CG-5000, a также оптические установки контроля координат топологических элементов и критических размеров структур
на фотошаблонах; -
установки контроля дефектности на п/п пластинах AMAT Compass
и топологического рисунка на фотошаблонах; -
установки лазерного устранения недопустимых дефектов на фотошаблонах;
-
установки электронно-лучевой литографии.
В ходе выполнения ОКР должны быть разработаны следующие составные части Комплекта:
-
лазер гелий-неоновый (исполнение 1, 2, 3);
-
блок питания лазера (исполнение 1);
-
кабель питания лазера (исполнение 1);
-
фотоприемник (исполнение 1, 2);
-
кабель фотоприемника (исполнение 1).
Заключение
В 2020-м году, когда Мишустин только начал своё премьерство, у меня появилась некоторая надежда, что отечественной микроэлектроникой займутся всерьёз. Где-то с начала 2021-го года в моем блоге стали появляться осторожные статьи на эту тему, комментарии под которыми были, в целом, положительные, но среди них появлялось и немалое количество скептицизма, в том числе и довольно жёсткого.
Я писал, в основном, про литографы, как ключевое и наиболее сложное оборудование для производства микропроцессоров, но скептики заявляли и о неокупаемости фабрик из-за малой потребности внутреннего рынка, и об отсутствии остального оборудования, а не только литографов.
Наиболее искушённые в этом вопросе на несколько более позднем этапе стали писать и об отсутствии производства чистой химии. Мол, всё равно производство, даже если такое будет организовано, будет критически зависимо от иностранных поставок материалов.
Весь пафос скептиков в то время сводился к тому, что производство чипов в России организовывать бессмысленно. Всё пойдёт в распил (навальнистские настроения в то время ещё были у некоторых в моде), а на выходе будет пшик, а даже если что-то заработает, то будет неконкурентоспособно. В общем, меня пытались убедить, что это всё не нужно, а деньги лучше раздать пенсионерам (тогда этот слоган, эксплуатирующий наболевшую эмоцию, тоже был в моде).
А потом пришёл февраль 2022-го года, и скептиков стало как-то меньше. То ли большинство из них уехало в страны, где Дзен заблокирован, то ли поняли, что я был прав в своём видении необходимости собственных фабрик и реалистичности действий правительства Мишустина в этом направлении.
Конечно, беспробудно упёртые в своих заблуждениях люди остаются, но они пишут настолько явную чушь, всё больше расходящуюся с реальностью, что в какой-то момент (признаться, совсем недавно) я их стал нещадно банить. Уж очень большое подозрение у меня в том, что они пишут из-за границы, не владея реальной информацией из России. Ну, или они тщательно фильтруют получаемую информацию, общаясь в своём узком кругу единомышленников и воспринимая лишь негатив, укрепляя тем самым свой непробиваемый информационный пузырь, не позволяющий им менять своё отношение к происходящему.
А происходящее довольно очевидно — микроэлектронику развивают не по-детски, на протяжении нескольких лет, и добиваются результата. Возможно, не так быстро, как хотелось бы, но хотелки хотелками а проблемы проблемами. Важно то, что они решаются, производство «Микрона» масштабируется, институты работают, и очень вряд ли тему микроэлектроники замнут, как заминали её на протяжении 2010-х годов. Не похоже на то.
Оригинал публикации в блоге автора на Дзене: https://dzen.ru/a/Z1nhIY-TU1eoLV0a
Об авторе: Специалист в области отечественной микроэлектроники, ведёт свой тематический канал «Электромозг» о российской микроэлектронике на платформе «Дзен».
ЧИТАЙТЕ ТАКЖЕ в рубрике «ИТ-СФЕРА» на нашем медиаресурсе:
Новые российские ПЛК на процессорах Эльбрус-2С3 внедряются в промышленности
Три новых модуля на базе многоядерного российского процессора К1879ВМ8Я внесены в госреестры
Появилась информация о выпуске первых 90-нм российских фотонных интегральных схем
Начаты поставки новых российских индустриальных преобразователей протоколов на процессорах Байкал
