В России идет работа над 130-нм собственным литографом
В сентябре 2024 года Зеленоградский нанотехнологический центр сообщил о ходе работ по созданию отечественного промышленного фотолитографического оборудования. Как уже писала ранее «Техносфера. Россия», первый созданный в постсоветское время российский 350-нм литограф (совместно с белорусским предприятием «Планар») завершает испытания до конца 2024 года. Уже начаты работы над аналогичными 130-нм и 90-нм установками.
По 350-нм литографу. Отработан базовый технологический процесс на опытной созданной установке в Зеленограде. Проведены технологические испытания тестовых структур, изготовленных на опытном образце, а затем выполнена его наладка. Испытания опытного литографа планируется завершить до конца 2024 года и разработать комплект рабочей технологической документации на базовый технологический процесс для серийного оборудования.
По 130-нм литографу. Разработан эксимерный лазерный источник для степпера, завершены его приемочные испытания. Завершение работ ожидается в соответствии с ранее объявленными сроками — в 2026 году.
По 90-нм литографу. Макетируются основные узлы установки на 90 нм, и ведется разработка программы и методики ПрИ опытного образца установки и стенда для измерения (контроля) фотолитографических и аберрационных характеристик объективов на рабочих длинах волн
Источник фото: Зеленоградский нанотехнологический центр
