О разработке российского литографа на основе лазерно-плазменного источника излучения
26 августа 2024 года в Сарове на II Всероссийской школе-семинаре НЦФМ «Центр исследования архитектур суперкомпьютеров» в докладе Дмитрия Валерьевича Бисикало, академика Российской академии наук, главного ученого секретаря Национального центра физики и математики (НЦФМ) прозвучала информация о ведущейся разработке отечественного рентгеновского литографа на основе лазерно-плазменного источника излучения.
Согласно приведенным данным, при создании данной отечественной литографической установки разрабатывается ряд необходимых технологических решений, в том числе новый лазерно-плазменный источник излучения с рабочей длиной волны 11,2 нанометра: «что лучше имеющихся сегодня 13-нанометровых источников и обеспечит дальнейший серьезный задел для развития не только на российском, но и мировом уровне».
Работа на данный момент находится в зоне компетенций Минпромторга России, ожидается выделение финансирования в необходимых размерах для осуществления всего задуманного в указанные в проекте сроки.
А предлагаемые сроки следующие: создать в течение 2 лет макет нового литографа, затем в течение 2-3 лет – промышленный образец с производительностью до 50 пластин 300х300 мм в час по топологии 28 нанометров. Из чего состоит разработка – можно изучить на показанном Дмитрием Бисикало слайде:
